波长光电（301421）历史涨停原因

1、7月28日，光刻机概念大幅高开，张江高科、波长光电、永新光学、海立股份竞价涨停。隔夜美股阿斯麦盘中一度大跌8%。

2、长鑫科技昨日登陆科创板。分析指出，存储扩产有望持续带动上游设备、材料、零部件等关键环节的快速增长。

1、据2026年6月22日投资者关系活动记录表，半导体及泛半导体业务是公司战略重点，产品涵盖成熟制程平行光源系统、先进制程光刻设备光源光学镜片等，预计2026年半导体领域营收占比有望提升。

2、据2026年6月22日投资者关系活动记录表，适用于PCB制造领域的精密激光微加工镜头是公司拳头产品，已为客户实现进口替代；适配超快激光光源的光学产品已得到客户验证，2026年有望带来增量，预计PCB领域业务占比将进一步提升。

3、据2026年7月20日公告，公司预计2026年上半年净利润2600万元至2900万元，同比增长82.65%至103.73%，增长主要受益于AI技术驱动下游需求增长、公司业务结构优化及综合毛利率提升。

1、半导体板块大幅反弹，板块内超80只个股涨停及涨超10%，此前7个交易日板块累计下跌逾32%，科创50指数午后大涨逾10%。

2、亚洲股市今日普遍反弹，韩国综合指数、日经225指数涨超3%。

1、据2026年7月20日公告，公司预计2026年上半年净利润2600万元至2900万元，同比增长82.65%至103.73%，增长主要受益于AI技术驱动下游需求增长、公司业务结构优化及综合毛利率提升。

2、据2026年6月22日投资者关系活动记录表，适用于PCB制造领域的精密激光微加工镜头是公司拳头产品，已为客户实现进口替代；适配超快激光光源的光学产品已得到客户验证，2026年有望带来增量，预计PCB领域业务占比将进一步提升。

3、据2026年6月22日投资者关系活动记录表，半导体及泛半导体业务是公司战略重点，产品涵盖成熟制程平行光源系统、先进制程光刻设备光源光学镜片等，预计2026年半导体领域营收占比有望提升。

1、据2025年1月20日互动易，公司向光刻机配套供应反射镜、场镜、平行光源等光学元件及子系统，用于接近式掩膜光刻、直写光刻、封装测试及半导体量检测。

2、据2025年8月19日半年报，2025H1公司半导体及泛半导体光学收入3477万元，同比增99.44%，其中半导体领域近1000万元，PCB精密激光微加工镜头已替代进口并创收2000多万元。

3、据2025年8月19日半年报，公司消费级光学收入1164.61万元，其中AR/VR光学产品收入约803万元，同比增470%，已超2024全年总量，百级洁净间量产线建成。

1、据2025年9月12日互动易，公司产品应用于光刻机领域，提供反射镜、场镜、平行光源等光学元件及子系统，用于接近式掩膜光刻、直写光刻、封装测试及半导体量检测。

2、据2025年8月19日半年报及2025年8月20日机构调研，2025H1公司半导体及泛半导体业务收入3477万元，同比增长99.44%，其中半导体领域收入接近1000万元，PCB精密激光微加工镜头实现进口替代，收入达2000多万元。

3、据2025年8月19日半年报，公司消费级光学收入1164.61万元，其中AR/VR光学产品收入约803万元，同比增长470%，已超2024全年550万元，并完成百级洁净间量产线建设。

据环球时报，美媒日前放风称，美国商务部官员已通知台积电、韩国三星等全球主要半导体制造商，计划撤销能让这些公司在中国大陆使用美国技术的豁免。

1、据2023年8月25日互动易回复，公司具备提供光刻机配套大孔径光学镜头的能力，并开发光刻机平行光源系统且已交付用于接近式掩膜芯片光刻工序。

2、据2025年6月12日机构调研，公司2024年半导体光学业务收入约1770万元，今年以来在半导体光刻及封装检测领域取得进展，主要表现在产品品类和客户技术需求上的增加，与浙江大学共建联合实验室开发半导体检测及光刻关键光学元件。

3、据2024年年报，公司是国内精密光学元件主要供应商，专注于工业激光加工、红外热成像领域；据2025年一季报，公司一季度营收9923.36万元，同比增长20.87%。

1、公司主营业务为光学元件、组件及光学设计、光学系统方案。

2、23年8月25日互动：在半导体应用领域，公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力。公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套，并已交付多套系统用于接近式掩膜芯片光刻工序。

3、23年8月22日公告：公司新型模压工艺研发的多款红外硫系玻璃模压镜头已实现批量出货，主要运用于红外辅助驾驶等领域。

1、公司主营业务为光学元件、组件及光学设计、光学系统方案。

2、23年8月25日互动：在半导体应用领域，公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力。公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套，并已交付多套系统用于接近式掩膜芯片光刻工序。

3、23年8月22日公告：公司新型模压工艺研发的多款红外硫系玻璃模压镜头已实现批量出货，主要运用于红外辅助驾驶等领域。

近日，工业和信息化部印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》的通知。目录中的“集成电路生产装备”板块列出了氟化氪光刻机和氟化氩光刻机。

1、公司主营业务为光学元件、组件及光学设计、光学系统方案。

2、23年8月25日互动：在半导体应用领域，公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力。公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套，并已交付多套系统用于接近式掩膜芯片光刻工序。

3、23年8月22日公告：公司新型模压工艺研发的多款红外硫系玻璃模压镜头已实现批量出货，主要运用于红外辅助驾驶等领域。